Extremes Ultraviolett-Lithographie-Konzept - E ... 
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Extremes Ultraviolett-Lithographie-Konzept - EUV und EUVL - Ein EUV-Laserpuls, der Schaltungsmuster auf einen Silizium-Wafer projiziert, um Next-Gen-Mikrochips herzustellen - 3D-Illustration
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9659x5833 Pixel 81,78x49,39 cm (300 dpi) |
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Web S 0,5 MP |
500x302 Pixel 16,93x10,23 cm (75 dpi) |
3,90 $ | 4,17 $ | |
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Print M 2 MP |
1000x604 Pixel 8,47x5,11 cm (300 dpi) |
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Print XL 8 MP |
2000x1208 Pixel 16,93x10,23 cm (300 dpi) |
12,90 $ | 13,80 $ | |
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Print XXL 15 MP |
9659x5833 Pixel 81,78x49,39 cm (300 dpi) |
15,90 $ | 17,01 $ | |
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| Merchandisinglizenz: JPG | ||||
| Format | Bildgröße | Netto | Brutto | Preis |
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Print XXL 15 MP |
9659x5833 Pixel 81,78x49,39 cm (300 dpi) |
79,90 $ | 85,49 $ | |
| Media-ID: | B:620335458 |
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| Beschreibung: | Extremes Ultraviolett-Lithographie-Konzept - EUV und EUVL - Ein EUV-Laserpuls, der Schaltungsmuster auf einen Silizium-Wafer projiziert, um Next-Gen-Mikrochips herzustellen - 3D-Illustration |
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| Nutzungsrecht: | Kommerzielle und redaktionelle Nutzung |
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| Hinzugefügt von: | ArtemisDiana |
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